2025 차세대 리소그래피 + 패터닝 학술대회
8/11-12, 2025 Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea / Online/Offline Hybrid
방문하기
Program at a Glance
| 1st Day | Aug. 11, 2025 (Mon.)
09:00-10:35
PL-I Plenary Session 『405-408』
Chair: 이상설 (포스텍)
Opening Remarks
프로그램위원장 개회사
Plenary Talk 1
Understanding, characterizing, and mitigating stochastics and phase in the realm of EUV masks | Patrick Naulleau (EUV Tech Inc., USA)
Plenary Talk 2
Light Meets AI: Driving Semiconductor Metrology in an Era of Complexity | 이명준 (삼성전자)
10:45-12:15
EU-I-1
초청 반근도 (SK hynix)
EU-I-2
초청 김형근 (한국전자기술연구원)
EU-I-3
초청김지호 (포스텍)
MI-I-1
초청 Hiebert (KLA)
MI-I-2
초청 유영국 (Park Systems)
MI-I-3
초청 전세영 (서울대)
ET-I-1
초청 임연호 (전북대)
A Review of Recent Advances in Dry Etching Technologies at SPIE Litho 2025
12:15-13:35
Lunch / Break
13:35-15:05
EU-II-1
초청 이성규 (삼성전자)
EU-II-2
초청 박의상 (SK hynix)
EU-II-3
초청 김상진(아주대)
MI-II-1
초청 Anagnostis Tsiatmas (ASML)
MI-II-2
초청 박경덕 (포스텍)
MI-II-3
초청 김도년 (서울대)
ET-II-1
초청 유신재 (충남대)
ET-II-2
초청 신태호 (ICD)
ET-II-3
초청 임연호 (전북대)
15:20-17:00
PL-II Plenary Session II 『405-408』
Chair: 김욱래 (삼성전자)
Welcome Remarks
조직위원장 환영사 한국광학회 회장 축사
Plenary Talk 3
2D Materials Etch Technology for Next Generation Semiconductor Fabrication | 염근영 (성균관대)
Plenary Talk 4
Empowering Semiconductor Scaling through EUV and Holistic Lithography | Seiji Nagahara (ASML-J)
17:15-18:25
Panel Discussion 『405-408』
Chair: 고차원(연세대)
주제
“3D Era.에서의 Litho, Etch, MI 역할과 전망”
패널: 이명준(삼성전자), 양승훈(삼성전자), 김용진(SK hynix), 신태호(ICD), Ethan C. B. Lee (삼성SDI), 이병호(Hitachi High-Tech)
18:25-20:25
Banquet _ 등록인원 『마키노차야 광교점』
| 2nd Day | Aug. 12, 2025 (Tue.)
09:00-10:35
PL-III Plenary Session III 『405-407』
Chair: 고차원 (연세대)
Appreciation Remarks
프로그램위원장 감사의 말씀
Plenary Talk 5
Evolution of Inverse Lithography Technology: Past, Present,and Future Perspectives on Overcoming Lithography Challenges | 양승훈 (삼성전자)
Plenary Talk 6
Comprehensive Overview of Lithography Patterning Materials and Innovation toward Next Generation Device Architecture | Ethan C. B. Lee (삼성SDI)
10:45-12:10
NGL-J Session 『405-407』
Chair: 이병호(Hitachi High-Tech)
NGL-J-1
초청 Yoshio Suzaki (Canon)
NGL-J-2
초청 Wataru Yamane (Hitachi High-Tech)
NGL-J-3
초청 Yohei Ikebe (Hoya)
13:15-14:15
Poster Session
14:15-15:45
PM-I-1
초청 최정희 (삼성전자)
PM-I-2
초청 허수미 (전남대)
PM-I-3
기원철 (전남대)
PM-I-4
홍승재 (고려대)
CL-I-1
초청 김보경 (SK Hynix)
CL-I-2
초청 서정훈 (ASML)
CL-I-3
김서현 (KAIST)
AL-I-1
초청 김석 (포스텍)
AL-I-2
초청 정연식 (KAIST)
AL-I-3
초청 금호연 (한국생산기술연구원)
AL-I-4
초청 최문기 (UNIST)
16:00-17:30
PM-II-1
초청 남창용 (Brookhaven Nat.Lab)
PM-II-2
초청 유영민 (연세대)
PM-II-3
초청 김명웅 (인하대)
PM-II-4
이서현 (서울시립대)
CL-II-1
초청 김은성 (삼성전자)
CL-II-2
이진호 (서울대)
CL-II-3
채유진 (한양대)
AL-II-1
초청 박성준 (서울대)
AL-II-2
초청 노유신 (건국대)
AL-II-3
초청 서준민 (서울대)
17:45-18:00
CL Closing Session 『405/406』
Chair: 김성환(한양대)
Best Student Paper Awards Ceremony
ASML, 논문상 심사위원장
Closing Remarks
조직위원장
|
2024 차세대 리소그래피 + 패터닝 학술대회
8/12-13, 2024 Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea / Online/Offline Hybrid
상세보기
| 1st Day | Aug. 12, 2024 (Mon.)
09:00-10:25
PL-I Plenary Session 『405-408』
Chair: 김용진 (SK hynix)
Opening Remarks
프로그램위원장 개회사, 이병호 (히타치하이테크)
Plenary Talk 1
배근희 (삼성전자)
Plenary Talk 2
Erik R. Hosler (FylEx and xLight)
10:45-12:15
EU-I-1
초청 민철기 (삼성전자)
EU-I-2
초청 이동근 (ESOL)
EU-I-3
초청 김동언 (포스텍)
MI-I-1
초청 한상현 (NOVA)
MI-I-2
초청 정재훈 (삼성전자)
MI-I-3
초청 장무석 (KAIST)
12:15-13:30
Lunch / Break
13:30-15:00
EU-II-1
초청 김황범 (SK hynix)
EU-II-2
초청 승병훈 (S&S TECH)
EU-II-3
초청 김형준 (한국세라믹기술원, KICET)
MI-II-1
초청 Sean Park (KLA)
MI-II-2
초청 장혜진 (서울대)
MI-II-3
초청 Eugen Foca (Zeiss)
ET-I-1
초청 이재원 (SK hynix)
ET-I-2
초청 임연호 (전북대)
ET-I-3
초청 정진욱 (한양대)
15:20-16:50
PL-II Plenary Session II 『405-408』
Chair: 이명준 (삼성전자)
Welcome Remarks
조직위원장 환영사, 안진호 (한양대)
한국광학회 (차기)회장 축사, 이상민 (KAIST)
Plenary Talk 3
양유신 (삼성전자)
Plenary Talk 4
서재욱 (SK hynix)
17:10-18:30
Panel Discussion 『405-408』
Chair: 이상설 (포스텍)
주제
“Scale down (EUV HNA Challenges) + 3D Architecture”
패널: 고차원(연세대), 김재현(SK hynix), 양유신(삼성전자), 배근희(삼성전자), 서재욱(SK hynix), 최리노(인하대)
18:30-20:30
Banquet 『마키노차야 광교점』
진행: 남정림 (한양대)
| 2nd Day | Aug. 13, 2024 (Tue.)
09:00-10:30
PS Poster Session 『4th Floor Lobby』
10:30-12:00
PL-III Plenary Session III 『405-408』
Chair: 허성민 (ASML)
Appreciation Remarks
프로그램위원장 감사의 말씀, 이준호 (공주대)
Plenary Talk 5
성낙근 (ASML)
Keynote Talk 1
Simon Lee (KASASV)
12:00-13:30
Lunch / Break
13:30-15:00
PM-I-1
초청 정현담 (전남대)
PM-I-2
초청 서용범 (삼성전자)
PM-I-3
구예진 (인하대)
PM-I-4
윤세현 (전남대)
LO-I-1
초청 김은주 (삼성전자)
LO-I-2
초청 김성호 (SK hynix)
LO-I-3
초청 송정철 (National NanoFab)
AL-I-1
초청 심태섭 (아주대)
AL-I-2
초청 강문성 (서강대)
AL-I-3
초청 정현호 (GIST)
15:20-16:50
PM-II-1
초청 윤효재 (고려대)
PM-II-2
초청 이진균 (인하대)
PM-II-3
김현석 (전남대)
LO-II-1
초청 Ulrich Welling (Synopsys)
(Online)
AL-II-1
초청 노유신 (건국대)
AL-II-2
초청 한상윤 (DGIST)
AL-II-3
초청 김인기 (성균관대)
17:10-17:30
CL Closing Session 『405/406』
Chair: 김성환 (한양대)
Best Student Paper Awards Ceremony
학생논문상 심사평, 김성환 (한양대)
학생논문상 시상, 정진항 (ASML)
Closing Remarks
조직위원장 폐회사, 박종락 (조선대)
|
2023 차세대 리소그래피 학술대회
8/21-22, 2023 Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea / Online/Offline Hybrid
|
2022 차세대 리소그래피 학술대회
11/17-18, 2022 Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea / Online/Offline Hybrid
|
|
|